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 使用電離釋放型動態水處理系統的幾個理由
信息來源: 發布時間2013-11-1
使用電離釋放型動態水處理系統的幾個理由
一、使用電離釋放型動態水處理系統的幾個理由
    傳統處理循環冷卻水的方法主要是加入化學藥品來抑制微生物生長和結垢,但因水中藥品和無機鹽隨水的蒸發而濃度增加,這樣必須排放部分含藥和無機鹽的冷卻水,同時及時補充清潔水。傳統處理方法帶來的問題:系統用水量增加和大量排水,間接導致水費增加;微生物的抗藥性,要求及時地、適時地改變藥品;盡管如此,結垢問題、生物膜,軍團菌三大問題還是不能徹底解決。
    由冷卻塔等設備形成的循環冷卻水系統是軍團菌容易生存、繁殖的場所之一,同時可借助冷卻風機,將軍團菌散布至都市各個角落,對人體產生極大的危害之隱患。
二、循環冷卻水質穩定性判斷
1、  飽和指數法:IL=Phe-PHs
式中IL-飽和指數(朗格利爾指數)
熱組為傳熱系數的倒數
PHe-水的實例PH值
PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時的PH值:
(1)當IL=PHe-PHs>0時,水中的碳酸鈣處于飽和狀態,有結構傾向。
(2)當IL=PHe-PHs=0時,水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態,不腐蝕、不結垢。
(3)當IL=PHe-PHs<0時,水中CO2過飽和,有腐蝕傾向。
2、穩當指數法:IL=2PHs-PHe
3、臨界PH值法
4、用試驗方法測得剛剛出現結垢時的水的PH值,稱為臨界PH值,用PHc表示。
動態離子群控制:PH值     電導率   濁度    鈣離子    鎂離子   軍團菌
                微生物   總硬度   鋅離子  總鐵離子  正磷     總磷
離子群的簡寫:Cooperate
三、動態;離子群的控制原理
     在噴淋式冷卻塔中,軍團菌最易繁殖。軍團菌也是一種非典型肺炎病菌,能在25-42℃水溫下迅速繁殖,這種病菌通常存在于空調冷卻塔,加濕器和冷熱水管道中,由飛灑的水滴和灰塵攜帶,通過建筑物的通風系統和空調的新風系統進入室內。
磷酸鹽和聚合物類阻垢劑
    冷卻水系統在水高濃縮倍數下進行,由于磷酸鹽會大量的附著在金屬的表面上,反而引起結垢的危害,并且,聚磷酸鹽會水解生成正磷酸鹽,生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復合藥劑,即使冷卻水被高度濃縮,仍能充分發揮緩蝕和阻垢效果。
1、光催化劑的只要成分是納米級的二氧化鈦,它吸收陽光中的紫外線后,可形成活性氧類的超氧化物,破壞病毒所寄宿細胞的細胞膜,凝固病毒的蛋白質,抑制病毒的活性和細菌的繁殖,殺菌能力達到99.9%。
2、氧化性殺菌劑通常為強氧化劑,能夠氧化微生物體內起代謝作用的酶,從而殺滅微生物。氧化性殺菌劑對所有的微生物都有良好的殺滅能力。
3、非氧化性殺菌劑是以致毒劑作用于微生物,破壞微生物的新陳代謝或分裂細胞壁。
4、剝離劑在冷卻水中使用微生物剝離劑,他們不能直接殺死微生物,但是可以將微生物從系統中剝離下來,被沖走或由殺菌劑將其殺滅。最主要的特點,剝離劑可以去除微生物粘泥的沉積,保證系統的清潔,這是控制軍團菌最為有效的方法
氯化銀
     微生物在循環冷卻水系統中的大量繁殖生長會使水質惡化影響系統正常運行。由日本開發研制的載銀玻璃抗菌劑以磷酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃為載體,在玻璃熔制過程中加入了氧化銀作為殺菌成分。在冷卻循環水箱中添加適量上述可溶性玻璃及適量銅鋅合金纖維,可以持久抑菌、滅藻及防止污穢。另一種工業循環冷卻水用殺菌玻璃由SiO2、Na2O、A2O3和Ag2O組成,由于不含硼,所以這種玻璃成本低,含少量Al2O3可提高玻璃中Ag2O的含量并減緩玻璃的潮解,殺菌滅藻性能更強、更持久。
空調水系統
        在熱水系統包括空調水系統中經常會滋生一些致病微生物,如軍團菌等,危害人類健康。直接使用銀鹽就能很好地殺滅熱水系統中的軍團菌。研究表明,3μg/ L 的銀離子就能很好地控制循環熱水系統中軍團菌的生長。為控制熱水系統中的軍團菌,現在使用較多的是銅銀離子復合殺菌劑。Stout等在醫院熱水系統中采用含銀離子0104 mg/ L 、銅離子0117 mg/ L 的銅銀離子復合殺菌劑來控制軍團菌并取得了較好的效果。
游泳池水處理
    游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性,因此含銀殺菌劑在這一領域有廣闊的應用前景。Antelman 發明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑,該藥劑以正2 價銀的氧化物為主要殺菌物質,能在水中穩定存在,殺菌效率高,并且對人體有高度的安全性,完全能取代氯系、溴系殺菌劑。
飲用水處理
    億利達公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑,與水接觸后可緩釋出銀離子,從而起到殺菌作用。據報道,這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和金黃色葡萄球菌完全殺滅。
氧化硼
    加入H2S04,使易揮發的PbCl2轉變成難揮發的PbSO4或將氯離子轉變為氯化氫而趕走。NaOH曾被用來沉淀鐵為氫氧化鐵或轉鋅為鋅酸鹽;H3B03可以防止Pb(ND3)2被器皿滯留并使PbCl2定量回收,是因為硼與硅和鉛反應形成了硼-硅-鉛玻璃,而防止鉛被揮發,同時由于氧化硼形成二相的化合物,在酸的作用下,可以使Pb定量的轉入溶液,而防止了被石英器皿滯留。
槐氏公式的定性解
     分散度即顆粒大小,分散度越大,顆粒越小。
Cq-加入沉淀劑瞬間沉淀物的濃度;          s-開始沉淀時,沉淀物的溶解度;
Co-S-沉淀開始瞬間的過飽和度;            Co-S -沉淀開始瞬間的相對過飽和度;
                                             S
沉淀的形成過程
1、沉淀形成過程
構晶離子(飽和溶液)成核作用   成長    {聚集→無定開沉淀}
                       →     晶核   →   沉淀微粒{定向排列→晶形沉淀}
2、成核作用(晶核的形成)
(1)均相成核作用(自發成核)
        構晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對→離子群→晶核。
(2)異相成核作用(誘導成核)
        溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用,形成晶核(晶核數不變)。
表面吸附
      吸附層:優先吸附構晶離子 。
      擴散層:優先吸附與構晶離子能形成溶解度小,離解度小的物質的抗衡離子。當C相近時,
      Z愈大,變形性愈大,越易被吸附;
      當Z相同時,C愈大,越易被吸附。
      一般,某些陰陽離子被吸附的強度順序
1/2SO2-4<CI-<Br-<I-<SCN-<OH-
Li+<Na+<K+<Rb+<Cs+<NH+4<Mg2+<Ca2+<Ba2+<AI3+<Fe3+···<H+
參數與功能要求
       過濾精度:1.0~8.0mm                  管道連接:GB法蘭
       離子置換率>90%                           濁度<21     PH  7~8
       總硬度<800mg/L                           設備承壓≤1.6mpa
       電流:Ac220v  50Hz                      溶縮倍數:6~8倍
       除垢:>99%                                  防垢:>99%
       除銹:>98%                                  水溫:0~80℃
       殺軍團菌率>99%                           滅藻率>99%
       殺滅細菌率>99%                           壓損<0.016Mpa
       流速1~25m/s                                水頭損失:0.15~1.0m
       壓差范圍:28~310KPa                  電異率≤200us/cm
       防腐蝕率:<0.005毫米/年                腐蝕速度≤0.125mm/a(5mpy)
       色度≤80~100                                陰離子N03
 
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